制作人 : 欧丁玉

作词 : 陈少琪

作曲 : 李偲菘

编曲 : David Garfield

近日像每样话题总不适合你

近日夜深相聚

飘起一抹冷漠空气

在这天

是你事无大小多么生气

谁人亦可知你将别离

落寞地躺在睡床试试抱紧你

但是目光躲避

令我可感到你在喘气

没说出

亦领会谁在撩动你

抛开苦痛去解脱自己

让你那些冷却热情另有生机

离开我以后我会习惯自卑

明天再偶遇我也不敢偷望你

离开我以后季节冷暖天气

我也置诸不理

愿名字也再不记起

离开我以后我会长留这地

晨早到午夜扑进漆黑想念你

离开我以后醉了会看到你

梦中方可永久地

接近你

oh-----

伴着但我在预期你会说舍弃

问事实怎躲避

在倒数将要每日想你

若这刻

若最后无力留下你

将消失勇气释放自己

就算某天我吻别人亦当亲你

离开我以后我会习惯自卑

明天再偶遇我也不敢偷望你

离开我以后季节冷暖天气

我也置诸不理

愿名字也再不记起

离开我以后我会长留这地

晨早到午夜扑进漆黑想念你

离开我以后醉了会看到你

梦中方可永久地

离开我以后我会习惯自卑（接近你）

明天再偶遇我也不敢偷望你

离开我以后季节冷暖天气

我也置诸不理

愿名字也再不记起

离开我以后我会长留这地

晨早到午夜扑进漆黑想念你

离开我以后醉了会看到你

梦中方可永久地

接近你

oh-----

和声 :  Dorcas Kwok/金培达/郑中基

键盘 : David Garfield

OP : Music & Melody Publishing

SP : PolyGram Music, Hong Kong, Ltd.

贝斯 : Jimmy Johnson

录音室 : Record Plant (Los Angeles)/ Conway Studios/Ocean Way Recording/Capitol Studios/Platinum Studios (Hong Kong)/Avon Studios (Hong Kong)

混音室 : Record Plant (Los Angeles)/Conway Studios/Larrabee Sound Studios/Dragon Studios (Hong Kong)

鼓 : Carlos Vega

钢琴 : Randy Waldman

电吉他 : Michael Landau

录音师 : Alan Hirshberg/Ronnie Rivera

混音师 : Mick Guzauski

录音工程师 : Alan Hirshberg/Robert Read